高溫?zé)Y(jié)爐：通常具有較為復(fù)雜的結(jié)構(gòu)，為了滿足高溫?zé)Y(jié)的工藝要求，會配備高精度的溫度控制系統(tǒng)、氣氛控制系統(tǒng)等。爐體一般采用多層保溫結(jié)構(gòu)，以減少熱量散失，有些還會配備真空系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)真空或特定氣氛下的燒結(jié)。

馬弗爐：結(jié)構(gòu)相對簡單，一般由爐體、加熱元件、溫度控制系統(tǒng)等基本部件組成。爐體多為單殼體結(jié)構(gòu)，保溫性能相對較弱，且通常沒有復(fù)雜的氣氛控制和真空系統(tǒng)。

高溫?zé)Y(jié)爐：利用高溫使粉末狀或顆粒狀的材料在固態(tài)下相互融合，通過原子擴(kuò)散等過程實(shí)現(xiàn)致密化，形成具有一定性能的燒結(jié)體。為了精確控制燒結(jié)過程，其溫度控制精度較高，并且可以根據(jù)不同的材料和工藝要求，營造不同的氣氛環(huán)境，如真空、氫氣、氮?dú)獾取?/p>

馬弗爐：主要是通過加熱元件產(chǎn)生熱量，使?fàn)t膛內(nèi)達(dá)到較高溫度，對樣品進(jìn)行加熱處理。它主要用于一般性的高溫加熱實(shí)驗(yàn)，如樣品的灰化、灼燒等，通常是在常壓下的空氣氣氛中進(jìn)行工作。

高溫?zé)Y(jié)爐：廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)領(lǐng)域，如陶瓷、粉末冶金、電子材料等行業(yè)。用于制造高性能的陶瓷制品、金屬基復(fù)合材料、電子元件的燒結(jié)等，例如集成電路陶瓷封裝外殼的燒結(jié)、高性能磁性材料的制備等。

馬弗爐：在實(shí)驗(yàn)室和工業(yè)生產(chǎn)中常用于化學(xué)分析、礦石焙燒、金屬熱處理等方面。例如，在化工分析中用于樣品的灰分測定，在礦石加工中用于礦石的焙燒預(yù)處理，在金屬加工中用于小型零件的淬火、退火等簡單的熱處理。

高溫?zé)Y(jié)爐：根據(jù)不同的型號和用途，溫度范圍一般在 1000℃至 2000℃左右，甚至更高，可滿足各種高熔點(diǎn)材料的燒結(jié)需求。

馬弗爐：常見的馬弗爐溫度范圍通常在 500℃至 1300℃之間，部分高性能馬弗爐最高溫度可達(dá) 1600℃，能滿足大多數(shù)常規(guī)材料的加熱處理要求。